技术编号：2698273
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供具有对于波长250nm以下、特别是200nm以下的光的耐光性良好的防尘薄膜的光刻用薄膜、使用该薄膜的带薄膜的光掩模及曝光处理方法。光刻用薄膜是具有包含由含氟聚合物(A)形成的膜和由含氟聚合物(B)形成的膜的多层薄膜的光刻用薄膜，其中，含氟聚合物(A)含有将含1个醚性氧原子的全氟二烯环化聚合而得的重复单元作为主要成分，含氟聚合物(B)具有环结构内含互不相邻的2个或3个醚性氧原子的含氟脂肪族环结构，其特征在于，所述由含氟聚合物(B)形成的膜的总膜厚在...
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