技术编号：2705115
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明的光源装置及投影仪，为了减小激光的干涉条纹的厚度，特征在于①按每个照射区域来改变微透镜阵列的透镜特性；或者②激光元件按照取向分别不同的方式设置；或者③使准直透镜的聚光度分别不同。专利说明可射出将干涉条纹的影响降低的光的光源装置以及采用该光源装置的投影仪[0001]相关申请的交叉参考[0002]申请日为2012年12月19日的日本申请第2012-276548号、申请日为2012年12月21日的日本申请第2012-279029号、以及申请日为2012年1...
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