技术编号:27107601
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及磁控溅射技术领域,具体涉及一种溅射源靶材独立更换机构。背景技术.随着科技不断进步,薄膜产品广泛被应用于g、汽车、新能源等高端领域,其市场的需求不断增大、应用要求逐渐高端化。随着薄膜产品的质量和经济效率不断的提高,真空镀膜设备生产过程中对真空度异常、靶结构漏水、靶头不易更换、靶材溅射异常等造成产品的质量下降、优率下降等问题的控制要求也越来越高。通常的真空磁控溅射卷绕镀膜机主要真空腔体、卷绕机构、溅射源、冷却辊、真空系统组成。当前市面上主要有两种不同方式的溅射源,一种是使用平面式靶...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。