技术编号：2714523
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开一种对称式双远心投影光学系统和光刻设备。所述投影光学系统用于将物平面内的图形成像到像平面内，沿其光轴方向包括前组、孔径光阑和后组。所述前组包括第一镜组、第二镜组和第三镜组，所述第一镜组具有负光焦度，第二镜组和第三镜组具有正光焦度；所述后组包括第四镜组、第五镜组和第六镜组，所述第四镜和第五镜组具有正光焦度，所述第六镜组具有负光焦度；所述前组和后组关于所述孔径光阑对称，并满足一定的关系式。采用本发明的投影光学系统，使用性能优良的光学材料时也能有效地校...
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