技术编号：2727527
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制造，特别涉及一种用于掩膜版的保护 膜及其支架.背景技术光刻掩膜版(Mask),也称为掩模版或者光罩，是一种对于曝光光 线具有透光性的平板，其上具有对于曝光光线具有遮光性的至少一个几 何图形，可实现有选择地遮挡照射到晶片表面光刻胶上的光线，以便在 晶片表面的光刻胶上形成图案。掩膜版的质量会直接影响所形成的光刻 胶图案的质量，如果掩膜版被玷污，附有了异物，则该异物的图形也会 转移至晶片上，从而影响晶片上器件的性能和成品率，因此，对掩膜版 的质...
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