技术编号：2727713
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻装置的对准技术，尤其涉及用于光刻装置的非对称透射标 记組合及其对准方法。背景技术在工业装置中，由于高精度和高产能的需要，分布着大量精密光电测量、 高速实时信号采样、数据采集、数据交换和通信传输等的测量系统和控制系统。 这些系统需要我们采用多种方式实现传感器信号采样控制、数据采集控制、数据交换控制和数据传输通信等的控制。有该测量和控制需求的装置包括集成 电路制造光刻装置、液晶面板光刻装置、MEMS/MOEMS光刻装置、先进封装 光刻装置、印刷电...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。