技术编号：2730587
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种例如对半导体晶片或LCD基板(液晶显示器用玻 璃基板)等基板进行抗蚀剂液的涂敷处理、曝光后的显影处理等的涂 敷、显影装置及其方法以及存储用来实施涂敷、显影方法的程序的存 储介质。背景技术在半导体器件或LCD基板的制造工艺中，利用被称作光刻的技术 对基板实施形成抗蚀剂图形的处理。该技术通过一系列的工序而实施， 例如在半导体晶片(以下称晶片)等基板上涂敷抗蚀剂液而在该晶片 的表面形成液膜，使用光致掩膜使该抗蚀剂膜曝光之后，进行显影处 理从而得到预...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。