技术编号：2739233
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种纳米模板的制作方法，属于纳米制造领域。 背景技术随着半导体加工光学光刻技术上的制约，纳米压印技术已经成为替代传统 光学光刻的一种具有优势的纳米制作技术，具有不逊的竞争力和广阔的应用前 景。纳米压抑技术是采用具有纳米图案的压模将基片上的聚合物薄膜压出纳米 级图形，再对压印件进行常规的刻蚀、剥离等加工，最终制成纳米结构和器件。 纳米压印技术可以大批量重复性地在大面积基底上制备纳米结构图形，并且所 制作出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。该...
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