技术编号：2739565
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种具有球面样品的投影曝光光刻系统，是一种采用面积微分的方法对 球面样品分面元拼接曝光，实现不同曲率样品的表面光刻。 技术背景传统投影光刻技术仍然是平面对平面的光刻，很难实现平面掩模对曲面样品的成像 曝光；为了一次完成平面掩模对曲面样品的曝光光刻，采用特殊的投影物镜系统，矫正 像场弯曲，这只能针对特定曲率面形的样品，对于不同曲率面形的样品无能为力；对于 目前直写类光刻，例如激光，电子束、离子束等聚焦直写技术，如配有特殊的载物台 虽然能够满足球面光...
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