技术编号：2744029
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是一种关于在半导体集成电路或液晶显示装置等的制造中，用以制作光蚀刻步骤中所使用的曝光用的全像光罩的曝光方法及装置，以及使用全像光罩的记录方法。背景技术 由于近接式曝光、透镜投影曝光或镜面投影曝光等，将曝光用的光罩的曝光图案直接成像在被曝光物的记录方法中，具有与曝光光波长度相同程度的线宽的曝光图案的解像，为了解决因光衍射现象所造成困难(所谓衍射效率界限)的不良情况，而有一种记录方法，所述方法是使用具有称之为移相器的相位调制层的移相光罩。在使用如此的移相...
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