技术编号：2752107
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及新型正作用、可光致成像且水性可显影的抗反射涂料组合物和它们通过在反射性基材和光致抗蚀剂涂层之间形成新型显影剂可溶性抗反射涂料组合物的层而在图像加工中的用途。此种组合物尤其可用于通过光刻技术制造半导体器件，特别是要求用深紫外辐射曝光的那些。背景技术光致抗蚀剂组合物用于缩微光刻方法，这些方法例如在计算机芯片和集成电路的制造中用于制造小型化电子元件。通常，在这些方法中，首先将光致抗蚀剂组合物的薄涂膜施加于基材材料上，例如施加于用于制造集成电路的硅晶片上...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。