技术编号:2752313
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用作抗蚀剂组合物用产酸剂的新型化合物及其制造方法、 产酸剂、抗蚀剂组合物和抗蚀剂图案形成方法、以及能作为用作抗蚀剂组 合物用产酸剂的化合物的中间体使用的新型化合物及其制造方法。本申请要求2007年12月21日在日本提出的特愿2007—330891号、 2007年12年21日在日本提出的特愿2007—331163号以及2008年3月6 日在日本提出的特愿2008—0568S0号的优先权,在此引用其内容。背景技术在光刻技术中进行如下工序例如在基板上形...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。