技术编号：2752354
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于一种平板印刷用防护薄膜框架，其构成平板印刷用防护薄膜组件，特别是构成在制造LSI、超LSI等半导体装置时，用来当 作防尘器使用的平板印刷用防护薄膜组件，而且其特别是使用在以高解 析度为必要的曝光中，并使用在200nm以下的紫外线曝光中。背景技术以往在LSI、超LSI等半导体装置或是液晶显示板等产品的制造中， 是用光照射半导体晶圆或液晶用原板以制作形成图案，惟若此时所使用 的曝光原版有灰尘附着的话，由于该灰尘会吸收光，使光反射，故除了 会使转印的...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。