技术编号：27615545
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及真空镀膜设备领域，具体涉及一种适用于真空设备样品台中的磁场发生装置，用于制备磁性芯片时，施加均匀可控磁场。背景技术.磁性芯片作为高可靠的信息存储(如磁随机存储器等)和高灵敏的磁信号传感(如磁阻传感器等)的核心单元，已广泛用于飞机、卫星的控制系统，以及手机电子罗盘、汽车自动驾驶等领域，已成为信息技术和信息产业中不可缺少的基础元件。而磁性芯片的功能膜层通常在真空设备中进行制备，制备过程中关键的核心技术之一就在于功能膜堆沉积时，需要施加高均匀度和可控的磁场。随着集成电路产业的发展，对大...
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