技术编号：2768650
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种适用于薄膜器件阵列制造的制造方法，特别地但不是专有地用于主动矩阵液晶显示器(AMLCD)及微电子机械系统(MEMS)的生产中。本发明还涉及在这种方法中使用的掩模，掩模的使用及掩模的制造方法。减少工艺步骤的数量并简化工艺步骤是降低诸如AMLCD和x射线图像传感器的器件制造成本的重要手段。减少步骤数量的一种途径是使用单一的光刻步骤来限定两层光致抗蚀剂。在这种工艺中使用的光掩模可以具有三个区域。一个区域是完全透明的以允许紫外线(UV)穿过，第二区域...
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