技术编号：2770752
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及照相处理设备的改进，更具体地说，涉及具有窄处理通道的照相处理设备。为了保持对照相处理设备内的光敏材料进行高质量的处理，重要的是，要将光敏材料保持在它必须通过的每一种处理溶液内，并且保持一段预定的时间。非常希望能减少光敏材料在处理溶液内的时间，以便提高处理装置的生产率。然而，如果光敏材料没有得到正确的处理，例如清洗不当，那么材料的长期稳定性就会受到很大影响。在例如美国专利5,311,235、5,309,191、5,339,131、5,387,499...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。