技术编号：2776118
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本公开涉及模版掩模及其制造方法，根据使用带电粒子束如电子束的光刻技术利用该方法形成图形，更具体涉及使用由支柱支撑的薄膜膜片的模版掩模及其制造方法。背景技术 随着半导体集成电路的设计规则减小，已开发了利用粒子束如X射线、电子束以及离子束来增强光学仪器的分辩率的光刻技术。在各种光刻技术中，电子束投影光刻法具有以1μm或更小的尺度形成精细图形的优点。因此，已提出了使用该光刻技术的各种系统和图形形成方法。美国专利号US5,831,272中公开了一个实例。电子束接近...
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