技术编号：2777444
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于调制多射束光刻系统中的射束的幅度的调制器，尤其涉及用于无掩模光刻系统的调制器。背景技术 包括离子、激光、EUV和电子束系统的无掩模光刻系统均需要用于处理和传送图样数据给某种写入装置的装置。由于掩模是储存图样非常有效的方式，所以用于描述图样的原始数据量很大。此外，对于商业上可接受的生产量，必须以非常高的数据率传输数据给写入装置。另外，必须在有限空间内获得高数据率。迄今为止仍未认识到无掩模光刻系统中的数据路径的改进对这些系统的生产量具有深远效果。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。