技术编号：2777552
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术1.发明领域本发明一般地涉及使用设计者意图数据来检查晶片和掩模版的方法和系统。某些实施方案涉及基于代表掩模版的数据或者通过检查掩模版所产生的数据来检测晶片上的缺陷的系统和方法。2.现有技术描述制造例如逻辑和存储器器件的半导体器件通常包括使用许多半导体制造工艺来处理例如半导体晶片的样品，以便形成半导体器件的各种特征和多个层次。例如，光刻是一种半导体制造工艺，它通常涉及将图形(pattern)转移到设置在半导体晶片上面的抗蚀剂(resist)上。其他半...
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