技术编号：2778295
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及在半导体衬底或液晶显示装置(LCD)基板的表面上例如形成涂敷型薄膜用的膜形成方法，以及在膜形成方法中使用的成膜装置。背景技术 近年来，对LSI的高集成化的要求越来越高，伴随于此，在半导体光刻技术中要求形成小于等于100nm的微细的器件图形那样的精度非常高的加工技术。因此，在图形曝光装置中，通过从KrF→ArF→F2那样实现在曝光中使用的受激准分子激光器的波长的短波长化，使解像度不断地提高。另一方面，随着微细化的进展，不能忽视抗蚀剂膜的图形倒塌。因...
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