技术编号：2780419
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种曝光装置，尤其涉及一种不受掩模尺寸限制且低成本的扫描型(scan-type)曝光装置。背景技术 一般来说，曝光装置是用光刻法实施曝光过程的半导体器件，曝光是用于将掩模图案转印到玻璃上(如PDP，LCD半导体这些产品)的关键工序。光刻法包括晶片漂洗过程，用于在光处理(photo process)之前除去粘附于晶片表面上的杂质；表面处理过程，用于处理晶片表面从而使光敏膜更好地粘附到晶片上；光敏膜涂敷过程，用于将光敏膜以所需厚度均匀涂敷到晶片上；对...
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