技术编号：2789989
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于微纳米制造，涉及基于一维软模板纳米压印技术制作三维纳 米网格结构的方法。背景技术三维纳米结构在MEMS/NEMS、微/纳米流体器件、光子晶体、显示技术、衍射光学 等领域具有广阔的应用前景。在三维纳米结构制作技术方面，研究者们探索了多种光刻技 术，包括电子束直写技术、聚焦离子束光刻技术X射线光刻技术以及纳米压印技术。瑞士 保罗谢勒研究所的khleimitz等人采用控制不同曝光区域电子束曝光剂量的工艺，结合 热回流技术制作了一种三维结构的纳米压印模板...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。