技术编号：2791747
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻领域，尤其涉及应用于光刻机的调焦调平检测装置。背景技术投影光刻机是一种把掩模上的图案通过投影物镜投影到硅片表面的设备。为了使硅片表面位于指定的曝光位置，必须有自动调焦调平系统进行精确控制。目前，ASML、NIK0N.CAN0N公司的自动调焦调平技术最具代表性。自动调焦调平系统一般由光源、光阑、投影分支、检测分支、信号处理单元等部分构成，以获取曝光场内硅片表面高度与倾斜信息。通常，自动调焦调平系统设计使用的光源都设定以最佳功率运行、发出近似恒定...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。