技术编号：2809512
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种晶片清洗装置，特别涉及。背景技术目前的半导体工业中，光阻涂布是常用而必要的技术之一。而目前，业内通常使用旋转涂布的方法对光阻进行涂布，光阻涂布也是以旋转涂盖或气相涂盖两种的方式来进行，亦即将光阻滴洒在高速旋转的芯片表面，利用旋转时的离心力作用促使光阻往芯片外围移动最后形成一层厚度均匀的光阻层，此方法的优点在于形成得光阻层比较均匀，但在晶片的边上却容易出现光阻堆积现象，形成残留物，因而有可能造成机台误差等问题。同时，由于晶片在传送过程中也可能产...
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