技术编号：2811687
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及对例如半导体晶片或LCD基板(液晶显示器用玻璃基 板)等的基板进行抗蚀液的涂敷处理以及曝光后的显影处理的涂敷及显 影装置、涂敷及显影方法和存储介质。背景技术在作为半导体制造工序的一个的光刻胶工序中，在半导体晶片(以下也称为晶片)的表面上涂敷抗蚀剂，将该抗蚀剂以规定的图案曝光后 进行显影来形成抗蚀图案。这样的处理一般使用在进行抗蚀剂的涂敷以 及显影的涂敷及显影装置上连接有咏光装置的系统来进行。作为涂敷及显影装置例如已知有在日本专利申请公开2006-...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。