技术编号：2812920
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光刻，具体的说，涉及光刻曝光剂量的控制和采集，可以 运用于芯片制造、印刷电路板、掩膜板、平板显示器、生物芯片、微机械系统、光学玻 璃平板等衬底上印刷构图等场合。 背景技术光刻技术是用于在衬底表面上印刷具有特征的构图。这样的衬底可包括用于制造半 导体器件、多种集成电路、平面显示器(例如液晶显示器)、电路板、生物芯片、微机 械电子芯片、光电子线路芯片等的基片。经常使用的基片为表面涂有光敏感介质的半导 体晶片或玻璃基片。在光刻过程中，晶片放置在晶片...
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