技术编号：2890740
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及电子束曝光领域，尤其涉及电子束曝光系统。 背景技术几种电子束曝光系统在本领域中是已知的。这些系统中的大部分 被设置得用于将非常精确的图案转移到衬底的曝光表面上。由于依照 摩耳定律，平版印刷术特征变得越来越小，因此电子束的高分辨率可用于延续所述驱动以使得所述特征更小。传统电子束曝光设备具有大约为l/100晶片/hr的处理量。然而， 出于平版印刷术的目的，至少几个晶片/hr的商业上可接受的处理量是 必需的。已提出了用于增加电子束曝光设备的处理量的几种...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。