技术编号：2901736
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种等离子处理设备，具体来说涉及这种设备的壳体屏蔽层构造。背景技术等离子处理设备广泛应用于等离子清洗、刻蚀、等离子镀、等离子涂覆、等离子灰 化和表面活化、改性等场合。通过其处理，能够改善材料的润湿能力，使多种材料能够进行 涂覆、镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。长期以来，等离子 处理设备的壳体与其腔体内部的电极之间的屏蔽一直都是采用传统的方法，即，将壳体与 腔体之间距离增大，因此存在屏蔽不完全的缺陷，而且增大了壳体...
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