硅片碎片检测机构的制作方法技术资料下载

技术编号:29023551

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.本实用新型涉及硅片生产加工技术领域,具体为硅片碎片检测机构。背景技术.在硅片生产的过程中,硅片必须经过严格清洗,微量污染也会导致器件失效,清洗的目的在于清除表面污染杂质,包括有机物和无机物,这些杂质有的以原子状态或离子状态,有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面,会导致各种缺陷,清除污染的方法有物理清洗和化学清洗两种。.而在实际操作的过程中,为了提高整体清洗过程的速度,往往采用自动化机械设备替代人工进行清洗操作,但是在清洗的过程中,硅片经由输送部件进行移动,难免存在与设备发生碰撞或者是前...
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