技术编号：2908266
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体制程设备，尤其是对于基板实施等离子体处理的等离子体处理装置，具体地，涉及用于载置被实施等离子体处理的基板等被处理体的载置台以及具有该载置台的等离子体处理装置。背景技术在半导体设备的制造过程中，例如蚀刻、沉积、氧化、溅射等处理过程中，通常会利用等离子体对基板(半导体晶片、玻璃基板等)进行处理。一般地，对于等离子体处理装置来说，作为生成等离子体的方式，大体上可分为利用电晕(glow)放电或者高频放电，和利用微波等方式。在高频放电方式的等离子体处...
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