技术编号：29158231
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于纳米压印技术领域，涉及一种高折射率紫外光固化纳米压印胶及其制备方法。背景技术.高折射率聚合物微纳结构在各种先进光学器件，如光子晶体、超材料、传感器及微透镜cmos图像传感器等器件中存在巨大应用前景，无论在学术界还是工业界，研究人员都开展了大量的研究工作，然而目前大多数聚合物的折射率都无法满足性能要求。.纳米压印光刻技术已被公认为制造亚波长光学器件的低成本、高产量的方法。紫外纳米压印技术工作由于使用紫外线在室温下固化，加工效率高，原理如下：将具有纳米级凸凹结构的透明模板压入预聚体...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。