技术编号：29248739
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种半导体生产用清洗设备。背景技术.半导体清洗设备直接影响集成电路的成品率，是贯穿半导体产业链的重要环节，在单晶硅片制造、光刻、刻蚀、沉积等关键制程及封装工艺中均为必要环节，清洗工序的数量和重要性会继续提升，清洗设备的需求量也将相应增加。.随着半导体片的大量生产，在厂房内生产与加工时容易沾染较多的灰尘以及材料残渣，从而生产出来后需要半导体片表面进行清理，但现有对半导体片进行清理时，由于角度原因不能够完全的对整个半导体片清洗，使得清洗效果较差。发明内容....
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