技术编号：2935815
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及微电子，特别是涉及 一 种等离子体处理设备。背景技术等离子体处理设备已被广泛地应用于微电子。 请参考图1，图1为现有技术中一种典型的等离子体处理设备的 结构示意图。等离子体处理设备1通常包括壳体11,壳体11中具有反应腔室12，反应腔室12的顶部和底部分别相对应地设有上极板13和下极板 14。上招j反13与壳体11之间由绝缘部件15隔离；下核j反14的顶部 可以支撑待处理加工件。上述加工件应当包括晶片以及与其具有相同 加工原理的其他加工件。下文所...
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