技术编号：2943864
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。经涂覆之石墨物件及石墨物件之反应性离子蚀刻制造及整修相关申请案本申请案主张2010年4月21日申请之美国临时申请案第61/326，462号之权利；且主张2010年4月21日申请之美国临时申请案第61/326，469号之权利；且主张2010年4月21日申请之美国临时申请案第61/326，473号之权利。以上申请案之全部教示以引用的方式并入本文中。背景技术使用离子植入技术将杂质引入至诸如半导体晶圆之工件中。然而在植入期间，产生可能会污染工件之粒子。如Stone...
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