技术编号：29571591
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种紫外灯预处理方法、预处理装置以及紫外灯固化工艺系统。背景技术.在化学气相沉积工艺中，会使用紫外线固化工艺作为后处理工艺，以处理沉积形成的低介电常数薄膜，具体是通过紫外线固化将薄膜中致孔剂去除，以获得超低介电常k。但实际处理过程中，会出现致孔剂去除效果欠佳、氧化物网格交联作用受到不良影响等问题。发明内容.本申请实施例提供一种紫外灯预处理方法，设定紫外灯光强的预设波动范围，并检测所述紫外灯的光强，当所述紫外灯的光强的波动范围处于所述预设波动范围内，则...
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