技术编号：30078174
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于光刻机技术领域，具体为一种光刻机用混合光源发生装置。背景技术.光刻机是半导体产业中最关键的设备，它决定着芯片的性能、大小等最核心的地方。.中国专利cnu公开了一种光刻机光源技术方案为，包括颗以上的紫外线灯珠均匀分布在光源板正面，紫外线灯珠通过导线连接到发生器上，发生器调节光源强度。.现有技术中，光刻机一般选用半导体激光器作为曝光光源，而激光存在衰减的问题，以及现有的激光源等结构都是采用固定方式进行安装的，所以在适用于不同工艺生产时，需要将此进行拆卸，而来...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。