技术编号:30203106
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。一种连续式ald镀膜设备的物料移动结构技术领域.本发明涉及原子层沉积技术领域,具体而言,涉及一种连续式ald镀膜设备的物料移动结构。背景技术.原子层沉积(atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。在原子层沉积过程中,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的,这种方式使每次反应只沉积一层原子。并且,沉积层具有极均匀的厚度和优异的一致性。.可以理解的是,在原子层沉积镀膜的过程中,同样会对镀膜设备的内部进行镀膜,或者在镀膜设...
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