技术编号：30595226
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及探头技术领域，尤其涉及一种双探头光学测控机构。背景技术.金属有机化合物化学气相沉淀设备(metal-organic chemical vapordeposition，mocvd)是一种常用的半导体材料外延生长设备。在mocvd设备开腔维护时，为了避免反应腔内零部件直接暴露空气中，通常会在反应腔体外安装手套箱机构。手套箱形成一个独立的气体封闭空间，同时需要在能够保证密封的情况下，实现水、电、气、光等通过手套箱连接到反应腔体。其中，原位监测系统通过光纤跳线连接到手套箱内的探头上时...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。