技术编号:30670307
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及真空蚀刻技术领域,具体是一种清洁型高效真空蚀刻线设备。背景技术.蚀刻是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术,最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,在电路板的制作过程中,通常采用真空蚀刻设备对电路板进行加工。.传统的真空蚀刻线设备结构复杂,使用不便,无法保证电路板表面的清洁度,反应后的药水清理困难,无法快速的对电路板上的残余药水进行吸取,导致电路板局部蚀刻均匀性差,影响产品的后续使用效果。实用新型内容.本实用新型的目的在于提供一种清洁型高效真空蚀刻线设备,以解决真空...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。