技术编号：30748222
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及全息光栅制作的技术领域，具体涉及一种消像差变栅距光栅扫 描光刻的干涉条纹线密度的设计方法。背景技术.消像差变栅距光栅是指光栅刻槽密度按照一定规律变化的平面光栅，通过 光栅刻槽密度的变化校正离焦、球差等光学像差。与曲面光栅相比，光栅基底 为平面，降低了基底的加工难度。入射到变栅距光栅的子午光线可以自形成谱 线，光谱仪器中无需额外的准直及聚焦光学元件，减小了仪器的体积重量，提 高了光能利用率，具有较高激光损伤阈值，在同步辐射光源装置、高能激光装 置等领域具有重要应用。.变栅距光栅的...
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