技术编号:30770967
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及半导体制造设备技术领域,具体涉及一种陶瓷加热盘引出电极的结构。背景技术.化学气相沉积(chemical vapor deposition,cvd)设备是半导体芯片制作的关键设备,cvd设备的核心问题是如何保证材料生长的均匀性和重复性,芯片加热盘作为cvd设备中一个部件,其内含的电极和加热结构的制备方法会影响加热盘温度的均匀性,进而影响芯片生长过程中的均匀性和重复性。.cvd作为半导体芯片制作过程的关键设备,一直以来,cvd的核心技术基本被欧美国家所垄断,而cvd核心技术的关键问...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。