技术编号：31276765
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及涂胶显影设备技术领域，尤其是一种涂胶显影设备的结构。背景技术.现有半导体加工的光刻工艺中，涂胶设备、光刻设备和显影设备分别完成光刻胶涂布工艺流程、光刻工艺流程以及显影工艺流程。显影设备需要对曝光后烘干的硅片进行降温，而目前的显影设备的冷却是通过多个冷板对硅片冷却，冷板上设置有冷却通道，该冷却通道连通冷却液供应系统。.参照现有公开号为cnu的中国专利，其公开了一种晶圆冷却装置及涂胶显影设备，所述晶圆冷却装置包括：冷却盘，用于承载晶圆；均流板，设置于所述冷却盘...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。