技术编号:31294840
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及一种提高氟化钙晶体nm激光辐照硬度的方法,属于氟化钙晶体技术领域。背景技术.caf单晶的透过范围覆盖深紫外到中红外波段,且具有超低色散性能(阿贝系数:vd=.)、超高折射率均匀性和负折射率温度系数(dn/dt=-.×-k-),是光刻机曝光系统中不可替代的光学材料。随着半导体光刻技术的发展,光刻光源逐渐从汞灯光源发展到以具有更短辐射波长和更大单光子能量的深紫外激光光源,其中arf-nm为典型代表。光学材料长期处于较强的紫外/深紫外激光辐射状态时,...
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