技术编号：31572862
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。一种cvd镀膜机技术领域.本实用新型涉及化学气相沉积技术领域，具体为一种cvd镀膜机。背景技术.化学气相沉积简称cvd，是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程，而现有的化学气相沉积镀膜机主流的电极设计为阴极电极和阳极电极均放置于真空镀膜室内，镀膜激发源主要采用的是射频电源或者直流高压电源，cvd镀膜机的使用大大提升了生产效率，但是它也存在一些问题，例如镀膜箱的上下壳体开合过程中是采用常规金属活动页设置，存在操作不当，大力扣合的使用安全隐患。实用新型内容.针对...
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