技术编号:31845144
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及半导体制造领域,具体为一种改善逻辑产品外延纵向电阻率分布的工艺。背景技术.寸逻辑外延产品工艺为在轻掺硼衬底上生长一层轻掺硼的外延层,外延层与衬底的电阻率一致。假如外延层到衬底之间的电阻率分布存在较大变化率,则会在该区域产生势垒,导致漏电流的产生甚至是击穿失效,从而造成器件失效,良率和经济损失。这就要求严格控制电阻率的纵向分布。发明内容.本发明提供了一种改善逻辑产品外延纵向电阻率分布的工艺。.一种改善逻辑产品外延纵向电阻率分布的工艺,通过控制外延前清洗到外延工艺的等待时间,...
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