技术编号：32120767
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.描述了涉及衬底处理设备和衬底处理方法的示例。背景技术.当从处理室不工作的空闲状态执行作业时，首先在处理室的状态没有完全准备好的状态下处理待处理晶片，因此在首先待处理晶片和之后待处理晶片之间产生处理质量的差异。为了减小这种差异，有必要在预先准备好室的状态之后处理晶片。发明内容.本文描述的一些示例可以解决上述问题。这里描述的一些示例可以提供衬底处理设备和衬底处理方法，其可以在实际晶片被引入室之前准备室的状态，并且减少或避免由于晶片的处理顺序而出现的处理质量的差异。.在一些示例中，衬底处理设...
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