技术编号：32125249
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及半导体生产技术领域，具体而言，涉及一种光刻版框架及其制造方法。背景技术.随着半导体技术的发展，光刻机设备不断更新，在生产制造中，产品的不同光刻层需要搭配使用新型号的高分辨率光刻机和旧型号的光刻机，以实现先进光刻机只加工高精度要求的光刻刻次，物尽其用，旧型号的光刻机进行线条精度要求不严格的光刻刻次的加工，搭配使用降低成本投入，达到经济效益最优化。而在此过程中，以一种典型的光刻机设备系列为例，新型号光源nm波长以下的光刻机曝光视场一般为mm*mm，光源为nm波长以...
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