技术编号：32227761
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及高分子薄膜生产设备，尤其涉及一种用于薄膜熔体流道的截流机构。背景技术.在一种薄膜的生产过程中，薄膜原料形成的熔体通过输送流管进入挤出机构形成薄膜，由于其内部流道的直径较大，并且受到流速不稳定及主机过滤器压力不稳定的影响，熔体在流道中容易产生结晶体，挤出后在薄膜成品中形成晶点破洞，影响产品质量。因此，有必要在这种熔体流管的流道内设置截流机构，以克服上述缺陷。实用新型内容.本实用新型的目的是提供一种用于薄膜熔体流道的截流机构，以减少薄膜中的晶点破洞缺陷。.本实用新型为解决其技...
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