技术编号：32300457
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本发明涉及基片加工技术领域，特别是涉及一种偏压装置及基片处理设备。背景技术.基片在出厂前可能需要进行多种处理，以满足应用的需求。例如，玻璃作为一种基片，在出厂前进行表面粗化处理，以在玻璃的表面产生防眩光的效果。.在一些工艺环节中，由于需要利用电场使等离子体或其他粒子相对基片移动，基片或承载基片的载具等通电对象需要与偏压装置保持电气接触，使基片形成整体电极的一部分。.然后，在基片需要相对偏压装置移动的情况下，基片或载具与偏压装置间难以维持良好的接触，导致可能出现基片脱离整体的电极，影响工...
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