技术编号：32489212
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及物理磁控溅射技术领域，具体涉及一种铬铂合金靶材的制作方法、装置、设备及其存储介质。背景技术.镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。铂合金作为一种贵金属合金，凭借其优异的化学稳定性，较高的热导率和电导率以及独特的物理，化学性能，被广泛应用于电子、电气以及催化领域，有关其高性能薄膜的制备也一直成为各大高校及企业的研发重点。因此业内会利用铂合金进行靶材的制作。.但是现有的靶材制作方法得到的成品靶材的热稳定性较低，不...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。